Thetametrisis膜厚測量儀

簡要描述：Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

產(chǎn)品型號：FR-pRo
廠商性質(zhì)：代理商
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更新時間：2024-11-26
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詳細介紹

膜厚測量儀是一種用于測量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測量儀通常采用不同的工作原理和技術來實現(xiàn)準確的厚度測量，常見的膜厚測量儀包括：

1、X射線熒光測厚儀：利用X射線照射樣品表面，通過測量熒光光譜來確定薄膜厚度。

2、聲表面波測量儀：利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠頊y量薄膜厚度。

3、光學干涉儀：利用光學干涉原理測量薄膜的厚度，常見的有白光干涉儀和激光干涉儀。

4、磁感應測厚儀：通過測量磁感應信號來確定薄膜或涂層的厚度。

膜厚測量儀在工業(yè)生產(chǎn)、材料研發(fā)、電子設備制造等領域廣泛應用，可幫助用戶準確測量和控制薄膜的厚度，確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。使用膜厚測量儀時，需要根據(jù)實際情況選擇適合的儀器和測量方法，并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項。

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的，并廣泛應用于各種不同的應用。

比如：

吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用：

1、大學&研究實驗室

2、半導體行業(yè)

3、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質(zhì)特性表征

5、生物醫(yī)學

6、硬涂層，陽極氧化，金屬零件加工

7、光學鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，核心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。

此外，還有各種各種配件，比如:

1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架；

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測量的加熱裝置或液體試劑盒；

4.漫反射和全反射積分球。

通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

Specificatins 規(guī)格：

Model	UV/Vis	UV/NIR -EXT	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D Vis/NIR	NIR
光譜范圍 (nm)	200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700
像素	3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512
厚度范圍	1nm – 80um	3nm – 80um	1nm – 120um	1nm – 250um	12nm – 100um	12nm – 250um	50nm – 250um
測量n*k 蕞小范圍	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準確度,*	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	2nm or 0.2%	3nm or 0.4%
精度,*	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
穩(wěn)定性,*	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.15nm
光源	氘燈 & 鎢鹵素燈(內(nèi)置)				鎢鹵素燈(內(nèi)置)
光斑 (直徑)			350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)
材料數(shù)據(jù)庫				> 600 種不同材料

Accessries 配件：

電腦	19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦
聚焦模塊	光學聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量
接觸式探頭	用于涂層厚度測量和光學測量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品
顯微鏡	用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射率和透射率測量
積分球	用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射
手動 X-Y 樣品臺	測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺
加熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).
液體模塊	聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具，用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中
流通池	液體中吸光率、微量熒光測量